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有关触摸屏黄光制程相关工艺问题集

发布时间:2014/11/18 13:26:47   编辑:hxr  来源:触控技术网|全球触摸屏产业领航者
提要:作为目前最为主流的触摸屏制作工艺,黄光制程被普遍应用在触摸屏厂商的生产过程中。其实黄光制程在生产过程中,操作人员会遇到各种各样的问题,本文将就根据生产过程中遇到的问题及解决办法整理成集,以供参考。
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何为Exposure Field?

答:曝光区域,一次曝光所能覆盖的区域

何谓 Stepper? 其功能为何?

答:一种曝光机,其曝光动作为Step by step形式,一次曝整个exposure field,一个一个曝过去

何谓 Scanner? 其功能为何?

答:一种曝光机,其曝光动作为Scanning and step形式, 在一个exposure field曝光时, 先Scan完整个field, Scan完后再移到下一个field.

何为象差?

答:代表透镜成象的能力,越小越好.

Scanner比Stepper优点为何?

答:Exposure Field大,象差较小

曝光最重要的两个参数是什幺?

答:Energy(曝光量), Focus(焦距)。如果能量和焦距调整的不好,就不能得到要求的分辨率和要求大小的图形,主要表现在图形的CD值超出要求的范围。因此要求在生产时要时刻维持最佳的能量和焦距,这两个参数对于不同的产品会有不同。

何为Reticle?

答:Reticle也称为Mask,翻译做光掩模板或者光罩,曝光过程中的原始图形的载体,通过曝光过程,这些图形的信息将被传递到芯片上。

何为Pellicle?


答:Pellicle是Reticle上为了防止灰尘(dust)或者微尘粒子(Particle)落在光罩的图形面上的一层保护膜。

何为OPC光罩?

答:OPC (Optical Proximity Correction)为了增加曝光图案的真实性,做了一些修正的光罩,例如,0.18微米以下的Poly, Metal layer就是OPC光罩。

何为PSM光罩?

答:PSM (Phase Shift Mask)不同于Cr mask, 利用相位干涉原理成象,目前大都应用在contact layer以及较小CD的Critical layer(如AA,POLY,METAL1)以增加图形的分辨率。

何为CR Mask?

答:传统的铬膜光罩,只是利用光讯0与1干涉成像,主要应用在较不Critical 的layer

光罩编号各位代码都代表什幺?

答:例如003700-156AA-1DA, 0037代表产品号,00代表Special code,156代表layer,A代表客户版本,后一个A代表SMIC版本,1代表FAB1,D代表DUV(如果是J,则代表I-line),A代表ASML机台(如果是C,则代表Canon机台)

光罩室同时不能超过多少人在其中?

答:2人,为了避免产生更多的Particle和静电而损坏光罩。

 



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