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有关触摸屏黄光制程相关工艺问题集

发布时间:2014/11/18 13:26:47   编辑:hxr  来源:触控技术网|全球触摸屏产业领航者
提要:作为目前最为主流的触摸屏制作工艺,黄光制程被普遍应用在触摸屏厂商的生产过程中。其实黄光制程在生产过程中,操作人员会遇到各种各样的问题,本文将就根据生产过程中遇到的问题及解决办法整理成集,以供参考。
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PHOTO ADI检查的片数一般是哪几片?

答:#1,#6,#15,#24; 统计随机的考虑

何谓RTMS,其主要功能是什幺?

答:RTMS (Reticle Management System) 光罩管理系统用于trace光罩的History,Status,Location,and Information以便于光罩管理

PHOTO区的主机台进行PM的周期?

答:一周一次

PHOTO区的控片主要有几种类型

答:(1) Particle :作为Particle monitor用的芯片,使用前测前需小于10颗(2) Chuck Particle :作为Scanner测试Chuck平坦度的专用芯片,其平坦度要求非常高(3) Focus :作为Scanner Daily monitor best 的wafer(4) CD :做为photo区daily monitor CD稳定度的wafer(5) PR thickness :做为光阻厚度测量的wafer(6) PDM :做为photo defect monitor的wafer

当TRACK刚显示光阻用完时,其实机台中还有光阻吗?

答:有少量光阻

当TRACK刚显示光阻用完时,其实机台中还有光阻吗?

答:有少量光阻

WAFER SORTER有读WAFER刻号的功能吗?

答:有

光刻部的主要机台是什幺? 它们的作用是什幺?

答:光刻部的主要机台是: TRACK(涂胶显影机), Sanner(扫描曝光机)

为什幺说光刻技术最象日常生活中的照相技术

答:Track 把光刻胶涂附到芯片上就等同于底片,而曝光机就是一台最高级的照相机. 光罩上的电路图形就是"人物". 通过对准,对焦,打开快门, 让一定量的光照过光罩, 其图像呈现在芯片的光刻胶上, 曝光后的芯片被送回Track 的显影槽, 被显影液浸泡, 曝光的光刻胶被洗掉, 图形就显现出来了.

光刻技术的英文是什幺

答:Photo Lithography

常听说的.18 或点13 技术是指什幺?

答:它是指某个产品,它的最小"CD" 的大小为0.18um or 0.13um. 越小集成度可以越高, 每个芯片上可做的芯片数量越多, 难度也越大.它是代表工艺水平的重要参数.

从点18工艺到点13 工艺到点零9. 难度在哪里?

答:难度在光刻部, 因为图形越来越小, 曝光机分辨率有限.

曝光机的NA 是什幺?

答:NA是曝光机的透镜的数值孔径;是光罩对透镜张开的角度的正玹值. 最大是1; 先进的曝光机的NA 在0.5 ---0.85之间.

曝光机分辨率是由哪些参数决定的?

答:分辨率=k1*Lamda/NA. Lamda是用于曝光的光波长;NA是曝光机的透镜的数值孔径; k1是标志工艺水准的参数, 通常在0.4--0.7之间.

如何提高曝光机的分辨率呢?

答:减短曝光的光波长, 选择新的光源; 把透镜做大,提高NA.

现在的生产线上, 曝光机的光源有几种, 波长多少?

答:有三种: 高压汞灯光谱中的365nm 谱线, 我们也称其为I-line; KrF 激光器, 产生248 nm 的光; ArF 激光器, 产生193 nm 的光;

 

 



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