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有关触摸屏黄光制程相关工艺问题集

发布时间:2014/11/18 13:26:47   编辑:hxr  来源:触控技术网|全球触摸屏产业领航者
提要:作为目前最为主流的触摸屏制作工艺,黄光制程被普遍应用在触摸屏厂商的生产过程中。其实黄光制程在生产过程中,操作人员会遇到各种各样的问题,本文将就根据生产过程中遇到的问题及解决办法整理成集,以供参考。
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光罩的结构如何?

答:光罩是一块石英玻璃,它的一面镀有一层铬膜(不透光).在制造光罩时,用电子束或激光在铬膜上写上电路图形(把部分铬膜刻掉,透光).在距铬膜5mm 的地方覆盖一极薄的透明膜(叫pellicle),保护铬膜不受外界污染.

在超净室(cleanroom)为什幺不能携带普通纸

答:普通纸张是由大量短纤维压制而成,磨擦或撕割都会产生大量微小尘埃(particle).进cleanroom 要带专用的Cleanroom Paper.

如何做CD 测量呢?

答:芯片(Wafer)被送进CD SEM 中. 电子束扫过光阻图形(Pattern).有光阻的地方和无光阻的地方产生的二次电子数量不同; 处理此信号可的图像.对图像进行测量得CD.

什幺是DOF

答:DOF 也叫Depth Of Focus, 与照相中所说的景深相似. 光罩上图形会在透镜的另一侧的某个平面成像, 我们称之为像平面(Image Plan), 只有将像平面与光阻平面重合(In Focus)才能印出清晰图形. 当离开一段距离后, 图像模糊. 这一可清晰成像的距离叫DOF

曝光显影后产生的光阻图形(Pattern)的作用是什幺?

答:曝光显影后产生的光阻图形有两个作用:一是作刻蚀的模板,未盖有光阻的地方与刻蚀气体反应,被吃掉.去除光阻后,就会有电路图形留在芯片上.另一作用是充当例子注入的模板.

光阻种类有多少?

答:光阻种类有很多.可根据它所适用的曝光波长分为I-line光阻,KrF光阻和ArF光阻
光阻层的厚度大约为多少?

答:光阻层的厚度与光阻种类有关.I-line光阻最厚,0.7um to 3um. KrF光阻0.4-0.9um. ArF光阻0.2-0.5um.

哪些因素影响光阻厚度?

答:光阻厚度与芯片(WAFER)的旋转速度有关,越快越薄,与光阻粘稠度有关.

哪些因素影响光阻厚度的均匀度?

答:光阻厚度均匀度与芯片(WAFER)的旋转加速度有关,越快越均匀,与旋转加减速的时间点有关.

当显影液或光阻不慎溅入眼睛中如何处理

答:大量清水冲洗眼睛,并查阅显影液的CSDS(Chemical Safety Data Sheet),把它提供给医生,以协助治疗

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根据工艺需求排气分几个系统?

答:分为一般排气(General)、酸性排气(Scrubbers)、碱性排气(Ammonia)和有机排气(Solvent) 四个系统。

高架 地板分有孔和无孔作用?

答:使循环空气能流通 ,不起尘,保证洁净房内的洁净度; 防静电;便于HOOK-UP。

离子发射系统作用

答:离子发射系统,防止静电

SMIC洁净等级区域划分

答:Mask Shop class 1 & 100Fab1 & Fab2 Photo and process area: Class 100Cu-line Al-Line OS1 L3 OS1 L4 testing Class 1000

什幺是制程工艺真空系统(PV)

答:是提供厂区无尘室生产及测试机台在制造过程中所需的工艺真空;如真空吸笔、光阻液涂布、吸芯片用真空源等。该系统提供一定的真空压力(真空度大于 80 kpa)和流量,每天24小时运行

什幺是MAU(Make Up Air Unit),新风空调机组作用

答:提供洁净室所需之新风,对新风湿度,温度,及洁净度进行控制,维持洁净室正压和湿度要求。

 



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