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触控面板制造工艺之黄光工艺流程全解

发布时间:2014/8/22 11:16:41   编辑:hxr  来源:触控技术网|全球触摸屏产业领航者
提要:作为目前电容式触摸屏最为主流的制造工艺,黄光制程一直备受关注。技术发展到今天,已经拥有非常完善的工艺。本文将从黄光制程的步骤入手,全面介绍制程中每个步骤及所需注意的事项。
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3.曝光

目前曝光方法采用接触式曝光,因此方法所用设备简单,操作方便,它包括“定位”和“曝光两个步聚。定位对光刻精度影响很大,是光刻中十分重要的一环,要认真对准。

一般操作程序是:光预热紫外光(UV)灯,待光源稳定后,把菲林安装在支架上;将涂有光刻胶的ITO玻璃放在平台上,胶面朝上,将光刻菲林支架放下,仔细调态平台微动装置,使菲林上定位标志与平台上玻璃的定位准确套合。定位完成即可曝光,曝光后经过显影并检查定位是否正确。

曝光时间由光源到ITO玻璃的距离,光源强弱,光刻胶的感光性能及菲林、玻璃厚薄等因素决定 如曝光时间过短,光刻胶感光不足,则其光化学反应不充分 ,光刻胶的抗蚀性能就会降低,显影时部分溶解,此时在投影机下可观察到胶膜发黑; 若曝光时间太长,会使光刻胶本不该感光部分的边缘被微弱感光,即产生“晕光”现象,蚀刻后边原模糊或发现皱纹,使分辨率降低。

为了保证曝光质量,在操作中要注意以下几点;

(1) 定位必须严格套准

(2) 菲林必须平整地贴在玻璃上,不能有空隙。若存在空隙,则不该曝光的地方会受到光的照射,使图形产生畸变;

(3) 曝光操作中,应注意动作要轻,保护好菲林不致划伤;

(4) 曝光时间必须准确控制。 曝光治具有菲林、干版、絡版

曝光工艺参数之设定:

(1) 光量为100-140mj/c㎡,曝光时间为6.8-8.5s,曝光柄位之标准公差±0.2mm,曝光机内紫外光被为380-780纳米

 

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