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触控面板制造工艺之黄光工艺流程全解

发布时间:2014/8/22 11:16:41   编辑:hxr  来源:触控技术网|全球触摸屏产业领航者
提要:作为目前电容式触摸屏最为主流的制造工艺,黄光制程一直备受关注。技术发展到今天,已经拥有非常完善的工艺。本文将从黄光制程的步骤入手,全面介绍制程中每个步骤及所需注意的事项。
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a.产生毛刺和钻蚀的原因有:

涂胶前玻璃表面洁净度不够,存在污物,油污、小颗粒吸附水汽,使光刻胶与ITO层粘附不良,引起毛刺或局部钻蚀。 光刻底板不好,图形边缘有毛刺状缺陷。 光刻胶过滤不好或太陈旧,存在颗粒状物质,造成粘附不良。 显影时间过长,图形边缘发生钻溶,蚀刻时就要造成钻蚀。 曝光不足,光硬化反映不彻底,显影后在胶膜上产生溶坑或图形边缘引起钻溶,蚀刻时造成毛刺或钻蚀.

b.产生针孔的原因

光刻掩模版质量不好,本身有针孔;

涂光刻胶时,操作环境被灰尘沾污;

光刻胶涂得太薄,或光刻胶本身抗蚀性能太差;

曝光时间控制不好; 蚀刻液配比不当;

玻璃表面本身缺陷也可能造成针孔。

c.产生“小道”的原因及其处理方法

由于菲林不好,图案区有针孔或损伤,曝光是光透过这些针孔,使这些地方的胶膜局部感光,成为不溶于显影液的胶膜“小岛”,蚀刻后成为ITO层的“小岛”,出现这种情况应及时发现并更换或处理菲林。

若显影不彻底,则在光刻窗口内留下一层不易察觉的胶膜,这层胶膜在蚀刻ITO层的过程中起阻蚀作用,从而造成ITO层蚀刻不彻底,残留下ITO层“小岛”。出现这种情况在胶膜抗蚀能力允许的条件下,应适当延长蚀刻时间。 蚀刻液不纯,特别是沾有灰尘等异物,往往对ITO层有腐蚀作用,形成ITO层“小岛”。因此,保持玻璃表面清洁,无灰尘污染,保持蚀刻液清洁并定期更换蚀刻液,可以减少由此产生的“小岛”。

蚀刻时间与蚀刻速度有关,而蚀刻速度又与酸液和温度有关,若蚀刻时间太短,ITO层未蚀刻干净,会导致短路而蚀刻时间也不宜太长,因为胶膜抗蚀能力有限,时间长了蚀刻酸液会穿透蚀胶膜产生浮胶或使分辨率降低,图形变坏等。

蚀刻后玻璃应检查项目有:

蚀刻不足、蚀刻过度、无卜、短路等。

蚀刻工艺参数之设定:

酸液溶度为(一般玻璃)6.0-6.5N,(特殊玻璃)为6.4-6.8N,温度为45±2℃蚀刻速度:TN为3.6±0.1min,STN为3.2±0.1 min,喷洗压力为0.1-0.3kg/c㎡. 蚀刻应注意之项,在加酸时停止放玻璃,待酸打满后在打开循环加热器开关,等温度恒定在蚀刻玻璃。

 

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